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脈沖工藝在薄膜制備中的應用
本文綜述了國內外脈沖工藝在電弧離子鍍和磁控濺射中的應用.脈沖工藝為電弧離子鍍凈化大顆粒、增強膜基結合力、改善組織形貌、降低沉積溫度等起到了重要作用.電弧或濺射離子鍍高的離化率為脈沖工藝提供了最好的應用條件.最后,對脈沖工藝在薄膜制備中的應用前景進行了展望.
作 者: 作者單位: 刊 名: 真空科學與技術學報 ISTIC EI PKU 英文刊名: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY 年,卷(期): 2004 24(z1) 分類號: O484.1 關鍵詞: 電弧離子鍍 脈沖工藝 低溫沉積【脈沖工藝在薄膜制備中的應用】相關文章:
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