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不同氧分壓下ZrO2薄膜特性研究
在不同的氧分壓下用電子束熱蒸發的方法生長了氧化鋯薄膜.通過掃描探針顯微鏡、分光光度計、X射線衍射、激光損傷閾值(LIDT)測量等,研究了沉積中氧分壓對ZrO2薄膜的微結構、光學性質、激光損傷閾值等的影響.
作 者: 張東平 邵建達 邵淑英 齊紅基 高衛東 范正修 作者單位: 中國科學院上海光學精密機械研究所薄膜中心,上海,201800 刊 名: 中國激光 ISTIC EI PKU 英文刊名: CHINESE JOURNAL OF LASERS 年,卷(期): 2004 31(z1) 分類號: O484.5 關鍵詞: 光學薄膜材料 氧分壓 表面粗糙度 激光損傷閾值【不同氧分壓下ZrO2薄膜特性研究】相關文章:
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