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硬質陽極氧化
*硬質陽極氧化*
? 制作硬質氧化注意事項：
1.制品上所有棱角應倒成直徑不小于0.5mm的圓弧，不允許有銳角及毛刺以避免電流集中造成局部過熱、變脆、斷裂。
2.零件表面應較光滑，因為硬質氧化后表面粗糙度會降低一級。
3.不要求厚膜部位用過氯乙烯膠加以保護，螺紋孔，定位銷孔用塑料或膠皮堵塞。
4.不宜用于承受沖擊，彎曲或變形的零件，達到一定厚度的硬化膜會使鋁合金casting alloy的疲勞
? 強度有較大的降低，尤其是高強度的鋁合金，故對承受疲勞載荷的零件進行硬質陽極應十分慎重。
5.制品經硬質氧化后，尺寸增加約為膜厚的一半（單邊）所以對尺寸要求嚴格的制品 中，應根據膜厚確定其陽極氧化前的尺寸余量.
1.特性：硬質氧化是一種電化學處理方式，是純鋁或鋁合金材料上形成一極硬、耐高溫、耐磨、有高電阻性、耐腐蝕的硬氧化膜。膜層厚度thickness可達200um，外觀呈灰、褐色成灰深灰色（視材料而定）此一極高之表面硬度，配合鋁合金本身輕、機械加工容易、低成本的特性，廣泛應用于各種工業及軍事用途上，此值得我國工業升級之際，更是精密工業不可或缺的一環。
2.硬度hardness：指膜層之硬度，膜層厚度（thickness）指build up 和penetrating兩部份。t＝1/2build up+1/2penetrating。硬度之最低標準為b.s.5599規定hrc36以上（約hv350）接近材料部分可超過hrc60（hv700）以上。
3.耐磨性adrasion-resistance：以tabes abraser cs-17 1000g負載，鋁合金硬化處理之耐磨性遠優于硬鉻電鍍及其它之硬化鋼。
4.尺寸精確：膜層厚度一般為50±5um，元件單面尺寸約增加25um，對于較精細公差及特殊厚度要求，需于圖面上特別注明。
5.抗蝕性：經封孔，鹽霧試驗（astm117規格）超過5000小時無腐蝕現象發生。
6.合金材料適合性：適用于所有鋁合金，包括1000純鋁（1050、1100）、2000鋁銅系（2014）、3000鋁錳系、5000鋁鎂系。6000鋁鎂矽系（6061、6063）7000鋁鋅系（7050）及鑄造鋁合金514.2、a514.2、518.2、adc.5 adc.6等。
7.耐電壓（breakdown voltage）:達1500vdc以上。
8.高度電阻性：于20度c為4x10.15? cm?可作為良好之絕緣體。
*硬質陽極氧化*
9.耐熱性：膜層溶點達攝氏2050度c，短時間可保護鋁材在高溫中免受損害。
10.低摩擦系數：磨光后的表面，摩控系數可低至0.095，因此各種軍械及民用裝備滑軌，均應用此技術。
11.氧化膜的結合力：硬質氧化膜的形式是有一半的膜在鋁的內部一半長出來，與鋁基體金屬的結合力很強，很難用機械方法將它們分離，即使膜層隨基體彎曲直至破裂，膜層與基體金屬保持良好的結合。
12.氧化膜結構的多孔性：氧化膜具有多孔的蜂窩狀結構，可使膜層對各種有機物，樹脂、無機物、染料及油漆等表現出良好的吸附能力，可作為涂鍍層的底層，也可將氧化膜染成各種不同的顏色（硬質氧化膜，只可染黑色）提高金屬的裝飾效果。
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