氮化鋁薄膜光學常數和結合力測試分析

用直流磁控濺射方法在硅襯底上制備氮化鋁薄膜.X射線衍射儀和X射線光電子能譜儀分析了薄膜的結構和成分;橢圓偏振儀測量并擬合獲得AIN薄膜在250～1000 nm波長范圍內的折射率和消光系數曲線;利用大荷載劃痕儀的聲發射譜檢測方法并結合不同壓力下的劃痕顯微形貌觀察得到薄膜臨界載荷(結合力)Lc為29.45N.

作 者： 楊清斗 劉文 王質武 衛靜婷 YANG Qing-dou LIU Wen WANG Zhi-wu WEI Jing-ting   作者單位： 深圳大學光電子學研究所,廣東省光電子器件與系統重點實驗室,深圳,518060;深圳大學光電子器件與系統教育部重點實驗室,深圳,518060  刊 名： 硅酸鹽通報  ISTIC PKU 英文刊名： BULLETIN OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY  年，卷(期)： 2007 26(5)  分類號： O484  關鍵詞： 氮化鋁薄膜   橢圓偏振儀   消光系數   劃痕儀   結合力  

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