納米硅鑲嵌復合薄膜退火前后的微結構及發光特性研究

采用減壓化學氣相沉積方法,依靠純N2稀釋的SiH4氣體的熱分解反應,在玻璃表面生長了納米硅鑲嵌的復合薄膜.實驗研究了退火前后薄膜樣品的結晶狀態和光致發光特性.結果表明,未退火樣品的光致發光特性隨沉積溫度升高反而減弱.退火溫度Ta＞600℃時,晶化趨勢明顯,Ta＜600℃時,退火溫度對晶化的貢獻不大,但提高退火溫度或延長退火時間可以增加PL強度.同時在退火樣品中發現Si-Ox的單晶結構.通過Raman、PL、TEM的分析比較,認為在退火前后分別有兩種不同的發光機制起主導作用.

作 者：   作者單位：   刊 名： 真空科學與技術學報  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2004 24(z1)  分類號： O484.4  關鍵詞： 納米硅   化學氣相沉積   退火   光致發光  

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