室溫下制備的ZnO/Ag/ZnO多層膜的性能

采用射頻磁控濺射ZnO陶瓷靶、直流磁控濺射Ag靶的方法在室溫下制備了不同厚度的ZnO/Ag/ZnO多層膜.對樣品進行了研究.結果表明:隨著Ag層厚度的增加,ZnO(002)衍射峰的強度先增加后減小,Ag(111)衍射峰的強度增強,ZnO/Ag/ZnO多層膜的面電阻先減小后趨于穩定.ZnO膜厚度增加,Ag膜易形成晶狀結構,ZnO/Ag/ZnO多層膜的透射峰向長波方向移動.ZnO(60 nm)/Ag(11 nm)/ZnO(60 nm)膜在554 nm處的透過率高達92.3%,面電阻為4.2 Ω/□,品質常數ψГC最佳,約40×10-3/Ω.

作 者： 李俊 閆金良 胡振彥 孫學卿 LI Jun YAN Jin-liang Hu Zhen-yan SUN Xue-qing   作者單位： 魯東大學,物理與電子工程學院,山東,煙臺,264025  刊 名： 電子元件與材料  ISTIC PKU 英文刊名： ELECTRONIC COMPONENTS AND MATERIALS  年，卷(期)： 2007 26(11)  分類號： O484.4  關鍵詞： 復合材料   磁控濺射   多層膜   光電性質  

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