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納米ZnO去除CH3 SH性能的研究
在常溫、常壓條件下,考察了平均粒徑分別為14.3 nm,21.2 nm,24.1 nm,35.3 nm的ZnO和商品ZnO(約200 nm)對CH3SH的去除性能,通過FTIR和XPS等技術對脫硫反應后的試樣進行了表征.結果表明,CH3SH主要以分子形式吸附于納米ZnO表面,并隨納米ZnO粒徑的減小,吸附在納米ZnO表面上CH3SH的FTIR特征峰和硫物種XPS特征峰逐漸增強,CH3SH在納米ZnO表面進一步脫質子,反應活性逐漸增大,脫硫性能逐漸提高.說明納米ZnO的表面結構是影響脫硫性能的主要因素.
孫曙光,Sun Shuguang(哈爾濱通力電力控制工程有限公司,哈爾濱,150090)
李芬,Li Fen(哈爾濱理工大學化學與環境工程學院,哈爾濱,150040)
姜安璽,王路,Jiang Anxi,Wang Lu(哈爾濱工業大學市政環境工程學院,哈爾濱,150090)
刊 名： 黑龍江大學自然科學學報 ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NATURAL SCIENCE OF HEILONGJIANG UNIVERSITY 年，卷(期)： 2008 25(3) 分類號： O614.24+1 關鍵詞： 納米ZnO 常溫 CH3SH 脫硫【納米ZnO去除CH3 SH性能的研究】相關文章：
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