消像差光柵的理論及實驗研究

對消像差光柵進行了理論和實驗研究.用光程函數和費馬原理研究光柵的成像,用刻槽分布函數表示光柵的刻槽曲率及間距變化.對成像的理論分析表明光柵刻槽分布函數比刻槽間距更容易表達像差,給出了消像差光柵的表達形式.比較了SD、WFA、LPF等光柵的參數優化方法.探討了消像差光柵密度的干涉測量法,設計了光路,對光柵密度進行了測量.

作 者： 朱向冰 付紹軍 葉為全 何世平 劉穎 徐向東 洪義麟   作者單位： 朱向冰(中國科學技術大學,國家同步輻射實驗室,安徽,合肥,230029;安徽師范大學,物理系,安徽,蕪湖,241000)

付紹軍,葉為全,劉穎,徐向東,洪義麟(中國科學技術大學,國家同步輻射實驗室,安徽,合肥,230029)

何世平(中國科學技術大學,工程科學學院,安徽,合肥,230027) 

刊 名： 光學精密工程  ISTIC EI PKU 英文刊名： OPTICS AND PRECISION ENGINEERING  年，卷(期)： 2003 11(4)  分類號： O436.1  關鍵詞： 刻槽分布函數   像差   消像差光柵  

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