電子束和離子注入處理雞冠花種子對當代(Mo)植株生長發育影響的初步研究

利用電子束和氮離子、氫離子注入處理普通雞冠花干種子,試驗結果表明,兩種誘變處理均能顯著抑制雞冠花植株的生長、發育,并能有效地誘發花性狀變異,變異株率可達0.5%-2%.電子束處理雞冠花干種子的半致死劑量(LD50)經測定為1.2kGy左右;離子注入處理的半致死劑量隨注入離子種類不同而不同,N+注入的半致死劑量(LD50)為1.6×1017/cm2,H+注入的半致死劑量應低于1.6×1016/cm2.雞冠花干種子電子束處理的適宜劑量為1.5kGy左右,離子注入處理的適宜方法是N+1.6×1016/cm2.同時雞冠花對高劑量輻照較不敏感,是一種耐強輻照的資源.

作 者： WANG Dan 王丹 任少雄 李衛鋒 蘇乾治 蘇軍   作者單位：   刊 名： 輻射研究與輻射工藝學報  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF RADIATION RESEARCH AND RADIATION PROCESSING  年，卷(期)： 2006 24(3)  分類號： Q94  關鍵詞： 雞冠花   電子束   離子注入   干種子   生長發育  

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