光強對喜樹幼苗喜樹堿含量及分配的影響

喜樹堿是我國特有樹種--喜樹中所含的重要次生代謝產物.在人工控制條件下觀察了光強對喜樹幼苗各器官中次生代謝產物喜樹堿含量及分配的影響.輕度遮蔭(相對光強為全光照的60%)處理30天和75天時葉片、莖及全株的喜樹堿含量均較對照(全光照)有所提高,而根的喜樹堿含量則是在全光照處理30天和重度遮蔭(相對光強為全光照的30%)處理75天時較高.喜樹幼苗根和莖的喜樹堿產量在75天的重度遮蔭處理后增加,而輕度遮蔭條件下處理75天時葉片和全株有較高的喜樹堿產量.光強也影響喜樹堿在喜樹幼苗各器官中的分配.

作 者： 王博文 王洋 閻秀峰 WANG Bo-wen WANG Yang YAN Xiu-feng   作者單位： 東北林業大學,生命科學學院,黑龍江,哈爾濱,150040  刊 名： 黑龍江大學自然科學學報  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NATURAL SCIENCE OF HEILONGJIANG UNIVERSITY  年，卷(期)： 2006 23(2)  分類號： Q945.79  關鍵詞： 光強   喜樹   喜樹堿  

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