X射線熒光層析成像中消除散射光的方法

介紹了X射線熒光層析成像技術(shù)的成像原理及其在微量分析領(lǐng)域中的應(yīng)用.針對(duì)X射線與物質(zhì)相互作用時(shí),不僅產(chǎn)生熒光,而且會(huì)產(chǎn)生各種散射光,為消除這些散射光對(duì)成像結(jié)果的影響,提出采用在與入射X射線垂直方向放置一個(gè)圓環(huán)狀的晶體單色器,即雙聚焦模式晶體單色器,使熒光與各種散射光分離,并聚焦在探測(cè)器上.這樣不僅大大增強(qiáng)了熒光信號(hào)的強(qiáng)度,而且可使熒光探測(cè)器小型化.

作 者： 謝紅蘭 高鴻奕 陳建文 陸培祥 徐至展   作者單位： 中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所,上海,201800  刊 名： 光學(xué)學(xué)報(bào)  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA  年，卷(期)： 2003 23(4)  分類號(hào)： O434.14 TH742.63  關(guān)鍵詞： X射線光學(xué)   X射線熒光層析   晶體單色器   同步輻射  

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