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電化學預拋、機械精拋、蝕刻打標三合一體拋光技術
介紹了一種先進的電化學拋光、常規的機械拋光和電化學蝕刻打標三合一技術.
作 者: 季仁良 Ji Renliang 作者單位: 無錫市盛良電加工設備廠 刊 名: 航空制造技術 ISTIC 英文刊名: AERONAUTICAL MANUFACTURING TECHNOLOGY 年,卷(期): 2007 ""(5) 分類號: V2 關鍵詞: 拋光技術 型腔模具 表面質量 電解液組織【電化學預拋、機械精拋、蝕刻打標三合一體拋光技術】相關文章:
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