多孔硅鍺的制備及其近紅外發光增強

用激光照射輔助電化學刻蝕硅鍺合金樣品能夠形成多種低維納米結構.在硅鍺合金上形成的多孔狀結構在波長為725 nm處有很強的光致發光(PL)峰,PL的增強效應不能單獨用量子受限模型來解釋.我們提出新的模型來解釋這種低維納米結構的PL增強效應.

作 者： 吳克躍 黃偉其 許麗 WU Ke-yue HUANG Wei-qi XU Li   作者單位： 貴州大學理學院,物理系,光電子技術與應用重點實驗室,貴州,貴陽,550025  刊 名： 發光學報  ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE  年，卷(期)： 2007 28(4)  分類號： O482.31  關鍵詞： 多孔硅鍺   低維納米結構   PL增強   界面態  

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